飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀的基本結(jié)構(gòu)：

　　二次離子質(zhì)譜儀視其應(yīng)用之不同而有各種不同的型式，其基本構(gòu)造可分為下列四大部分：

　　（1）照射激發(fā)用的一次離子束的離子槍；

　　（2）以能量選擇由試品產(chǎn)生的二次離子能量過(guò)濾器；

　　（3）進(jìn)行質(zhì)量選擇的質(zhì)譜儀；

　　（4）放大、檢測(cè)經(jīng)質(zhì)量選擇後的二次離子檢測(cè)輸出信號(hào)。

　　飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀的原理：

　　1.利用聚焦的一次離子束在樣品表面上進(jìn)行穩(wěn)定的轟擊，一次離子可能受到樣品表面的背散射，也有部分進(jìn)入樣品表面，這部分離子把能量傳遞給晶格，當(dāng)入射能量大于晶格對(duì)原子的束縛能是，部分原子脫離晶格向表面運(yùn)動(dòng)，并且產(chǎn)生原子間的級(jí)聯(lián)碰撞，當(dāng)這一能量傳遞到表面，并且大于表面的束縛能時(shí)，促使表面原子脫離樣品，謂之濺射；

　　2.上述一次離子引發(fā)的濺射大部分為中性原子或分子，也有少量荷電集團(tuán)，包括帶電離子、分子、原子團(tuán)，按照荷質(zhì)比經(jīng)過(guò)質(zhì)譜分離；

　　3.收集經(jīng)過(guò)質(zhì)譜分子的二次離子，可以得知樣品表面和體內(nèi)的元素組成和分布。

　　飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀的應(yīng)用很廣，偵測(cè)表面污染、氧化、還原、吸附、腐蝕、觸媒效應(yīng)、表面處理等動(dòng)態(tài)分析之表面研究工作，尤其可作微量元素分布，因此在材料、化學(xué)、物理、冶金及電子方面之發(fā)展，使用者很多。該產(chǎn)品不但可作表面及整體之分析，又可直接作影像觀察，其靈敏度及解析能力甚高，由較小的氫至原子量很大的元素均可偵測(cè)，尤其對(duì)于同位素的分析更是有效。